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Plasma系列 ICP-OES 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,國貨性價比之選

鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。

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Plasma 3000 雙向觀測ICP光譜儀

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。
固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣 CCD 采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

plasma 2000

Plasma 2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩(wěn)健的檢測能力。
高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

plasma 1500 2

Plasma 1500 固態(tài)光源單道掃描ICP光譜儀

單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵,Czerny-Turner結構光學系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
雙光柵設計,整個波長分布范圍內均具有極高光譜分辨率,國產ICP光譜儀最新設計。
高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
雙通道高靈敏PMT檢測器,寬動態(tài)范圍信號處理技術,具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內自動切換使用紫外專用PMT。
功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

分光系統(tǒng)
Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測與軸向觀測設計,適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

光源
固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試,均能獲得優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術,最大程度地降低自吸效應和電離干擾,從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準確的測量結果。 具有綠色節(jié)能待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節(jié)約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 實時監(jiān)控儀器運行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。

進樣系統(tǒng)
簡潔的炬管安裝設計,自動定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經過優(yōu)化的進樣系統(tǒng),可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測試。
使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵,提升樣品導入穩(wěn)定性。

檢測器
大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態(tài)范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準確的分析結果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產品中最大靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積24μm X 24μm,三級半導體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)
人性化的界面設計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置,直觀的測試結果顯示。

安全防護
全方位電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護,避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析??梢钥焖佟蚀_地檢測從微量到常量約70種元素。

Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀分辨率高,可廣泛適用于材料(稀土及磁性材料、鎢鉬、鈮鉭等)、冶金、地質、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于稀土及磁性材料、鎢鉬、鈮鉭、地質、冶金、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

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