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成像/投影
在其最簡單的形式中，成像分析主要是利用顯微鏡方法來聚焦表面（包括光學(xué)和電子）。分析提供的信息會受到所使用的儀器能力的限制。在此分析類型中主要采用的分析技術(shù)是掃描式電子顯微鏡（SEM）。

元素、無機物或者分子種類的橫向分配（例如位置）可以使用以下方法來測量：

• 電子束技術(shù)：SEM，EDS和Auger
• 離子束技術(shù)：TOF-SIMS和FIB

這些方法提供了地圖或圖像來顯示不同種類元素的相對位置，相關(guān)的功能，缺陷，顆粒等的有用信息。

也可以使用其他的技術(shù)來獲得圖像：

• Raman測量分子振動，并且提供有關(guān)官能基、碳類型和壓力/應(yīng)力的信息。
• AFM提供表面粗糙的圖像、硬度和磁性成像。
• XPS提供元素和化學(xué)映像。
• 光學(xué)輪廓測定可以產(chǎn)生表面的三維成像，三維測量或特定功能的成像。

在一個規(guī)模較大的晶圓映像到300mm，LEXES可以用于映射摻雜、薄膜成分和雜質(zhì)；XRR/XRF可以用于映像膜的厚度和密度；TXRF可以用于映像元素污染物。

主要分析技術(shù)

• Auger
• EDS
• FIB
• LEXES
• SEM
• TOF-SIMS
• XRF
• XRR

其他分析技術(shù)

• AFM
• Raman
• XPS