Thermo Scientific™ Nexsa™ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。

Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射线光电子能谱。获奖的新版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高，提供更高计数率和更快分析时间，改善化学探测能力。分析选配件包括一个角分辨XPS倾斜模块和一个循环惰性气体手套箱，用于转移空气敏感样品。K-Alpha带来一系列激动人心的新软件特征，旨在进一步增强用户体验。K-Alpha是专为多用户环境而设计，先进的单色X射线光电子能谱性能与智能自动化及直观控制相结合，同时满足有经验XPS分析人员及新人对此项技术的需求。

以zui小的投入获得专家研究级的结果。Thermo Scientific™ K-Alpha™+X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统是一种完全集成式单色小光斑 XPS 系统，具备深度剖析能力。先进的性能、更低的拥有成本、更高的易用性以及紧凑的尺寸，使 K-Alpha X 射线 XPS 系统成为多用户环境的理想选择。

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。
入围优秀新品获奖理由：
先进的成像探测器设计，用于定量XPI成像： 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术，一方面使得XPI成像分辨率达1um，另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器，实现体相分析技术和表面分析技术的结合： 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子枪结合，可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析，EDS可探测微米深度的元素组成，可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术，用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析： REELS可以探测材料的能级和带隙结果，并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息，并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+，设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统，高温高压催化还原反应系统和样品退火系统，满足不同的科研项目需求。

PHI X-tool是一款操作简单，同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统，可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比，不采用光阑进行选区，极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时，不需要增加磁透镜，即可得到卓越的灵敏度及优秀的信噪比，即使磁性样品，也可轻松应对。

PHI VersaProbe III是独特的扫描 X射线单色化的 XPS设备，具有显著的大面积和微区分析能力。其设计需求是为快速地，空间分辨分析固体表面的元素和化学态组成。PHI VersaProbe III 结合独特的扫描单色化 X 射线和自动化样品控制以及分析区域识别系统，可在自动化环境下实现化学态成像和多点图谱分析功能。

• 专利技术的聚焦扫描型X射线束用于样品成像和分析，一个带有多通道探测器的半球形能量分析器，一个高性能低能氩溅射离子枪，一个独特和专利技术的电荷补偿系统和一个大型五轴精密样品台。
• 为多种技术系统配置设计的。所有激发源法兰可安装和对准到一个共同的分析位置，扫描 X 射线单色器可与其他所选激发源结合以实现多种表面分析技术联用的功能，而且带有高真空样品制备腔室和样品传送杆，VersaProbe III 可支持先进领先的研究项目。
• 提供可选配的独特的 Ar 气团簇离子束（GCIB）和 C60 溅射离子枪用于有机和无机材料的表面清洁和薄膜深度剖析。
• 使用 X射线光电子能谱仪(XPS) 能够详细地分析元素和化学态，通常也被称为电子能谱化学分析仪（ESCA）。其一系列的功能提供了独特的高性能 XPS 薄膜分析（深度剖析）能力。系统的独特设计可自动分析不同类型的样品而无需更改仪器设置或参数设定。
• 基于一个超高真空分析腔室以保护样品不受污染，可以对材料表面、 薄膜结构和表面污染进行清晰准确的元素和化学态表征。
• 分析腔室由480 l/s 差分离子泵和钛升华泵 (TSP)抽真空。而系统的预抽气、 进样腔室抽气和对溅射离子枪的差分抽气均由 67 l/s 的分子涡轮泵完成。由于该系统固有的真空清洁度，对于分析所有类型的样品，碳氢化合物和其他污染都被降低到最小水平。
• PHI VersaProbe III 的系统控制和数据处理都是通过一台专用PC完成，其基于Windows ® 操作系统和安装了专用软件。

PHI Quantera II扫描XPS微探针是建基于业界荣获最多殊荣的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研发的XPS分析仪器，其革命性的技术包括：独创微聚焦X-ray源，可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray；专利的双束电荷中和技术，即使到各位数微米区域，依然能够有效中和样品荷电；五轴精密样品台及全自动样品传递手臂，可同时进样数百个样品；全自动支持互联网远程控制。这些革命性的技术，使XPS的应用范围从数百微米扩展至个位数微米，同时能够高效快速的处理各种样品，包括导体、绝缘体、磁性样品等。